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Accelrys Materials Studio Modeling V4.0

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Accelrys Materials Studio Modeling V4.0 英文光碟正式版(資料模擬計算)

商品名稱: Accelrys Materials Studio Modeling V4.0

商品分類: 工程繪圖、計算、賞析軟體

商品類型: 資料模擬計算

語系版本: 英文光碟正式版

運行平台: WIN 9x/WIN ME/WIN NT/WIN 2000/WIN XP/WIN 2003

更新日期: 2006-05-20

熱門標籤: 資料模擬計算 Modeling Studio Materials Accelrys


安裝說明:


‧執行 Autorun.exe 安裝,安裝實現後把光碟 授權檔 資料夾裡的 msilic.lic
複製到剛才 Accelrys Materials Studio 安裝實現的資料夾裡去,不知道該複製
到哪裡去的話,msilic.lic 檔案的預設位置在
C:Program FilesAccelrysLicense PackLicenses 資料夾裡
內容說明:



Accelrys Materials Studio 專門為資料科學模擬所設計,能苟且的建樹 3D 分子
模型,深刻賞析有機、無機晶體、無定形資料以及聚合物,概略在催化劑、聚合物
、固體化學、結晶學、晶粉衍射以及資料個性等資料科學研讨領域進行性質預測、
聚合物模型建製和 X 光衍射模擬, 獨霸靈活苟且,並且最大限定地運用網路資源

弁?
DISCOVER
分子力學和動力學程式。基於力場計算出最低能量構型、分子體系的結構和動力學
軌跡等

COMPASS
對固結態資料進行原子水平模擬的力場。概略在很大的溫度、壓力範圍內精確地預
測孑立體系或固結態體系中各種分子的結構、構象、振動以及熱物感性質。

Reflex
模擬晶體資料的 X 光、中子以及電子等多種粉末衍射圖譜

DMol3
密度泛函程式,可用於研讨均相催化、多相催化、分子反應性、分子結構等,也可
預測溶解度、蒸氣壓、配分函數、溶解熱、混合熱等性質

CASTEP
量子力學程式,應用於陶瓷、半導體、金屬等多種資料,可研讨晶體資料的性質、
内裏和内裏重構的性質、内裏化學、電子結構【能帶及態密度】、晶體的光學性質
、點流毒性質【如空地、間隙或取代摻雜】、延展流毒【晶粒間界、位錯】、體系
的 3D 電荷密度及波函數等。

VAMP
半經驗的分子軌道程式,適用於有機和無機的分子體系





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作者: wdhimywk
  (2011-09-21 05:00)
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