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Accelrys Materials Studio Modeling V4.0 英文光碟正式版 (材料模擬計算)

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Accelrys Materials Studio Modeling V4.0 英文光碟正式版 (材料模擬計算)






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Accelrys Materials Studio Modeling V4.0 英文光碟正式版 (材料模擬計算)
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Accelrys Materials Studio Modeling V4.0 英文光碟正式版 (材料模擬計算)

相關網址:
http://www.accelrys.com/mstudio

安裝說明:
‧執行 Autorun.exe 安裝,安裝完成後把光碟 授權檔 資料夾裡的 msilic.lic
複製到剛才 Accelrys Materials Studio 安裝完成的資料夾裡去,不知道該複製
到哪裡去的話,msilic.lic 檔案的預設位置在
C:Program FilesAccelrysLicense PackLicenses 資料夾裡

內容說明:

Accelrys Materials Studio 專門為材料科學模擬所設計,能方便的建立 3D 分子
模型,深入分析有機、無機晶體、無定形材料以及聚合物,可以在催化劑、聚合物
、固體化學、結晶學、晶粉衍射以及材料特性等材料科學研究領域進行性質預測、
聚合物模型建製和 X 光衍射模擬, 操作靈活方便,並且最大限度地運用網路資源

弁?
DISCOVER
分子力學和動力學程式。基於力場計算出最低能量構型、分子體系的結構和動力學
軌跡等

COMPASS
對凝聚態材料進行原子水平模擬的力場。可以在很大的溫度、壓力範圍內精確地預
測孤立體系或凝聚態體系中各種分子的結構、構象、振動以及熱物理性質。

Reflex
模擬晶體材料的 X 光、中子以及電子等多種粉末衍射圖譜

DMol3
密度泛函程式,可用於研究均相催化、多相催化、分子反應性、分子結構等,也可
預測溶解度、蒸氣壓、配分函數、溶解熱、混合熱等性質

CASTEP
量子力學程式,應用於陶瓷、半導體、金屬等多種材料,可研究晶體材料的性質、
表面和表面重構的性質、表面化學、電子結構【能帶及態密度】、晶體的光學性質
、點缺陷性質【如空位、間隙或取代摻雜】、延展缺陷【晶粒間界、位錯】、體系
的 3D 電荷密度及波函數等。

VAMP
半經驗的分子軌道程式,適用於有機和無機的分子體系





(cdmenu)





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Accelrys Materials Studio Modeling V4.0 英文光碟正式版 (材料模擬計算)

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作者: wcdgoogq
  (2010-01-26 13:05)
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